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放熱勉強会資料

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Minoru Natsutani

May 26, 2026

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  1. 7 放熱の数式 P = ΔT R𝑡ℎ 半導体 これが発熱する 空冷式の場合、熱は大気に逃がす。空気とのRthを下げるようにする。 ヒートシンクを使うことで半導体の熱を逃がしやすくなる。

    グリス ヒートシンクで空気との接触面 積を増やすことでRthを下げる。 半導体とヒートシンクの表面は 凸凹している。グリスを塗ること でその隙間を埋め、半導体とヒ ートシンク間のRthを下げる https://www.irasutoya.com/2017/05/blog-post_795.html
  2. 8 放熱の数式 P = ΔT R𝑡ℎ 半導体 これが発熱する 暖かい空気を冷たい空気に入 れ換えることでΔTを増やす

    https://www.irasutoya.com/2017/05/blog-post_795.html https://www.irasutoya.com/2017/08/blog-post_205.html 半導体の表面やヒートシンクに風を送ることは、暖まった空気を冷えた空気に置き換える効果が あり、ΔTを大きくできる。逆に言うと暖かい空気を送っても効果が無い