Upgrade to Pro — share decks privately, control downloads, hide ads and more …

Graphic designer portfolio

Julia
September 06, 2019

Graphic designer portfolio

Julia

September 06, 2019
Tweet

Other Decks in Design

Transcript

  1. ЛОГОБУК магазин корейской косметики магазин корейской косметики Охранное поле знака

    магазин корейской косметики 20 мм. магазин корейской косметики магазин корейской косметики суббота, 20 апреля DIN2014 Demibold АБВГДЕЁЖЗИЙКЛМНОПРСТУФХЦЧШЩЪЫЬЭЮЯ абвгдеёжзийклмнопрстуфхцчшщъыьэюя ABCDEFGHIJKLMNOPQRSTUVWXYZ abcdefghijklmnorqrstuvwxyz АБВГДЕЁЖЗИЙКЛМНОПРСТУФХЦЧШЩЪЫЬЭЮЯ абвгдеёжзийклмнопрстуфхцчшщъыьэюя ABCDEFGHIJKLMNOPQRSTUVWXYZ abcdefghijklmnorqrstuvwxyz DIN2014 Regular Для написания заголовков Для написания основного текста
  2. ЛОГОБУК детская школа программирования Руководство по использованию фирменного стиля Основная

    версия логотипа состоит из знака, названия школы и дескриптора Упрощенная версия логотипа состоит из знака и названия школы Знак школы Охранное поле логотипа Не следует располагать какие-либо элементы в пределах этого пространства. Выравнивание логотипа в любой области по центру происходит по левому краю знака и по правому краю названия Охранное поле знака Минимально допустимый размер логотипа и знака Максимально допустимый размер не ограничивается Основная версия логотипа школа креативного программирования 70 мм 40 мм Дополнительная версия логотипа 8 мм Знак Монохромные версии логотипов используются при отсутствии возможности цветовой печати RGB 0 10 245 HEX #000af5 CMYK 90 95 0 0 Pantone 2728 C RGB 255 0 152 HEX #ff0098 CMYK 0 97 46 0 Pantone 1925 C RGB 180 0 190 HEX #b400be CMYK 18 100 4 18 Pantone 234 C
  3. ПОЛИГРАФИЯ брошюры \ буклеты CUTTING EDGE TECHNOLOGY isteq.nl XWS-65 Broadband

    plasma light source XWS-65 - laser pumped plasma ultrabright broadband plasma lightsource ISTEQ’s XWS-65 light source product has been specially developed to be used for a variety of applications, including spectroscopy, high resolution microscopy, thin - lm measuement, surface metrology and others, This source is based on cutting edge technology, covered by EU and US patents. Absorption and uoescence spectroscopy Microscopy, including confocal and uoescense Diagnostics systems in microelectronics (contamination and defect control) Surface metrology (ellipsometery and scatterometry) Optical component testing Detectors in chromatography, micro uidic, lab-on-a-chip, droplet spectrometers, cyto uorimeers, etc. Spectral brightness of XWS-65 light source in UV and VIS spectral region 150 200 250 300 350 400 450 500 550 600 650 700 750 800 1 10 100 Brightness, mW/(mm2 nm sr) Wavelength, nm UVS Lamp Ozone free Lamp x x Application elds: Broad spectral range: 190-2500 nm High spectral brightness: up to 34 mW/(mm2 sr nm) High temporal and spacial stability: STD<0,1% Long life time due to no wear of lamps and electrodes: 10 000 hourse The small dimensions of the emitting volume considerably expand the range of XWS applications x x Main advantages: ISTEQ B.V. | High Tech Campus 9 5656 AE | Eindhoven, Netherlands Phone: +31(0)40-230-42-42 E-mail: [email protected] | [email protected] Tunable light source XWS-M150 XWS-M150 is a compact, easy-to-use, powerful and efficient tunable light source that provides milliwatts of output power, tunable in a spectral range from 190 mm to 2500 mm with a precise adjustment to a bandwidth Laser drive plasma light source XWS-65 for a high output ux Automatic monochromator with astigmatism compensation for maximum throughput Output power up to 3mW in a line of 6nm width High output power in UV region Spectral resolution down to 0,5nm Long lifetime up to 10,000 hours x x Overview: XWS-M150 - is a wide-aperture light source, which can be supplied with 1,2 or 3 diffraction gratings. As an option it is possible to supply eyther automated input and output slits, or a set of ed-width slits with manual shift. The spectral characteristics of the light sources XWS-M150 depends on the selected diffraction gratings (see speci cations). Tunable light source XWS-M150 speci c tions Light source Optical outout options Spectral range Aperture Maximum output power Spectral power density Optical power stability Line width (FWHM) Wavelength repeatabillity Wavelength scanning rate Plasma sixe on the monochromator entrance slit Set of lers for diffraction order suppression System cooling Control interface XWS-65 plasma light source directly coupled Free space, SMA ber output or ollimated light beam 190-2500nm* 1/3.8 Up to 3mW in a line of 6nm width* Up to 60uW/(nm-mm2)* STD<0.15% 0.5-90nm* 0.02-0.1nm* 16-300nm/sec* 5--um -Automatic wheel, with 5 lers for the range of 190-1620nm -Silicon ler for NIR range 1000-2000nm (option) Air by default, water optional USB * depends on the monochromator model and type of grating ISTEQ B.V. | High Tech Campus 9 5656 AE | Eindhoven, Netherlands Phone: +31(0)40-230-42-42 E-mail: [email protected] | [email protected]